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應用於集成電路製造
腾博会官网上海的前道塗膠顯影設備支持Arf工藝，未來可拓展至i-line、KrF等光刻工藝，可滿足半導體集成電路製造商的光刻工藝需求。
自主專利保護立體交叉結構（專利號：202211541793.9），提高設備產出率WPH
採用自主專利設計，優化整機內部氣流分佈，減少顆粒污染
精準控制塗膠量，減少光刻膠的消耗
具備多次回吸功能，能夠有效防止噴嘴口結晶
腔體配備獨立排氣裝置，能夠提高光刻膠膜厚的均一性，減少Wet-Particle
配備自主研發的多分區控制的高精度熱板
自主研發的控制軟件，可優化晶圓傳輸路徑，縮短傳輸時間
搭載缺陷檢測功能，可及時發現問題
搭載機械手工位auto-teaching功能，提高效率
支持主流光刻機接口
可適用於300mm晶圓清洗
可配置4個Loadport，多至8個塗膠腔體和8個顯影腔體
可拓展支持12個塗膠腔體及12個顯影腔體，每小時晶圓產能可達300片；
腔體溫度：23°C ±0.1°C ，烘烤範圍為50°C至250°C
